专利名称:
一种InTeI单晶体的制备方法
专利类别:
中国发明
专利(申请)号:
202011509550.8
申请日期:
2020-12-18
第一发明人:
程国峰
其他发明人:
周玄,尹晗迪,阮音捷,孙玥
专利授权日期:
2024-02-06