一种光辅助电化学刻蚀装置--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种光辅助电化学刻蚀装置

专利类别:

实用新型

专利（申请）号:

202323610903.5

申请日期:

2023-12-28

第一发明人:

刘志甫

其他发明人:

张静，张发强，马名生

专利授权日期:

2024-09-17